装载腔里面有二十个格，里面可以一次盛放二十片基板，整个装载腔是真空环境，一个真空泵和一个大气罗茨泵在基板放好了，舱门关闭之后，可以将整个装载腔内的空气。在装载腔的外有和腔室底的波纹相通的氮气，是用来控制腔室内基板放置的度的；还有排气，是用来恢复大气状态的，另外还有拉尼真空计和b－a真空计。

这个大家伙主要有五个工作室组成的，这五个工作室中有两个是工艺室，是专门用于给玻璃基板行镀反应的反应腔，还有一个是装载腔，是用来装载玻璃基板的；一个传送腔，是用来把装载腔的玻璃基板传送到工艺室中行镀反应的；最后一个就是卸载腔，功能就是将反应完成的玻璃基板卸载设备的。

即便是小曰本现在已经获得了专利授权，但他们造来的设备要想达到可控状态，还必须要经过调控，这调控是有窍门的，你不失败个几百上千次，你绝对是掌握不住这里面的窍门的。而李想偏偏就因为前世和刘军的关系，知了如何对pecvd设备中反应室的反应过程行可控的窍门，因此李想才有把握让小曰本乖乖的来买自个儿的设备。

对于这一，李想是毫不怀疑的，因为前世和刘军聊天的时候，刘军曾经给他讲过这方面的事情。当时即便是应用于tft－lcd工艺制程中的cvd设备的研发者——akt公司，也是经过了好长时间的尝试之后，才彻底掌控了这技术，并掌握了其中的关键窍门。现在换成曰本的那些晶面板生产商，他们的技术恐怕还不如akt公司的技术人员呢！

虽说从技术上来讲这个过程在这设备中是可控的，但只有彻底掌握了这技术的人，才能够将这个反应过程控制住。如果你吃不透这技术的话，那么你生产来的设备就无法将这个过程可控。

至是真空环境。再加上工作腔在行反应的时候，会产生极大的量，因此光是冷却分，也要占据极大的空间。

除了这些主要的腔室之外，这个大家伙还集成了供气系统、排气系统、除害系统、循环系统以及一些附件。总得来讲，是一比较复杂的设备。但这设备对于加工度的要求并不是那么，比起前段时间一机床给宏达电加工的那台内存颗粒理机来，这pecvd设备的加工度要差的远了。

现在李想更关注的是，一机床这个接待自个儿的生产厂长还有那个总工能不能将这图纸成功的转化成为真正的设备。

事实上这图纸刘志已经送过来快一个星期了，一机床的工程师在保密的前提下经过了好几天的攻关，总算是给了李想一个满意的答案，那就是他们可以将图纸上的东西变成真正的设备！

至于最重要的工艺室，里面的设计就更复杂了。一个工艺腔是由十个反应室和十个冷却箱组成的，各自之间通过铰链相互连接，的布局就是一层冷却箱一层反应室然后再一层冷却箱，这样可以保证充分的冷却。反应室的门是由弹簧和铝金属板构成的，通过弹簧将铝金属板压在腔上，保持关闭状态，以减少工艺腔的漏率。

这设备之所以能卖天价来，主要就是里面的心反应室的设置，也就是工艺气到反应室之后的反应过程。参与离反应的工艺气，据不同的镀需求，是要选用不同的工艺气的，硅烷、磷烷、氨气、笑气、氮气、氢气，每一工艺气在反应室里的加温温度都是不一样的，所产生的等离状态也是不一样的，产生的镀效果也是不一样的。

当然，在最关键的反应室调控方面，李想还得专门培养几个工程师，用来专门行调控的！

传送腔，里面的主要件就是一个真空机械手，在外面还有两个大气机械手，这机械手其实很简单，由支架、碳素钢叉和导轨组成的。支架上面有十层碳素钢叉，为了保证基板的平稳，每层的碳素钢叉有四，这样一个支架上面就是足足四十碳素钢叉。之所以采用了碳素钢，就是为了增加支架的刚度，减少基板和叉的下垂度，毕竟一片玻璃基板的重量也是很大的。

十个反应室是平行并列的，因此可以同时行四层的反应，而不会产生叉污染。只不过，每个反应室内的度都不是很，只有不到30毫米的度，因此在装卸基板的时候必须要小心，避免基板受到伤害。

毕竟这玩意儿的主要作用是用来行离反应的，而不是和内存生产线中的内存颗粒理机那么要求工作度的，因此这设备的加工工艺并不难。